Ishikawa, T. (1999). In situ electron-beam processing for III-V semiconductor nanostructure fabrication. Sociedad Mexicana de Ciencia y Tecnología de Superficies y Materiales A.C.
Citazione stile Chigago Style (17a edizione)Ishikawa, Tomonori. In Situ Electron-beam Processing for III-V Semiconductor Nanostructure Fabrication. Sociedad Mexicana de Ciencia y Tecnología de Superficies y Materiales A.C, 1999.
Citatione MLA (9a ed.)Ishikawa, Tomonori. In Situ Electron-beam Processing for III-V Semiconductor Nanostructure Fabrication. Sociedad Mexicana de Ciencia y Tecnología de Superficies y Materiales A.C, 1999.
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