Laurila, T. (1999). Chemical Stability of Ta Diffusion Barrier Between Cu and Si. Sociedad Mexicana de Ciencia y Tecnología de Superficies y Materiales A.C.
Chicago Style (17th ed.) CitationLaurila, T. Chemical Stability of Ta Diffusion Barrier Between Cu and Si. Sociedad Mexicana de Ciencia y Tecnología de Superficies y Materiales A.C, 1999.
MLA (9th ed.) CitationLaurila, T. Chemical Stability of Ta Diffusion Barrier Between Cu and Si. Sociedad Mexicana de Ciencia y Tecnología de Superficies y Materiales A.C, 1999.
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