Application of optical scatterometry to microstructure changes of Si1 xGex/Si heterostructures grown by gas source molecular beam epitaxy

Fuente: Redalyc

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Detalles Bibliográficos
Autor principal:	L.F. Zou
Formato:	Artículo científico
Lenguaje:	en
Publicado:	Sociedad Mexicana de Ciencia y Tecnología de Superficies y Materiales A.C. 1999
Materias:	Física, Astronomía y Matemáticas
Acceso en línea:	Acceder al recurso
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