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Application of optical scatterometry to microstructure changes of Si1 xGex/Si heterostructures grown by gas source molecular beam epitaxy

Fuente: Redalyc

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Bibliographische Detailangaben
1. Verfasser:	L.F. Zou
Format:	Artículo científico
Sprache:	en
Veröffentlicht:	Sociedad Mexicana de Ciencia y Tecnología de Superficies y Materiales A.C. 1999
Schlagworte:	Física, Astronomía y Matemáticas
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