Estudios de homogeneidad y estructura en heteroestructuras Co-Ni/p-Si/Si(100) preparadas por PLD
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Redalyc
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|---|---|
| Format: | Artículo científico |
| Language: | es |
| Published: |
Sociedad Mexicana de Ciencia y Tecnología de Superficies y Materiales A.C.
2001
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| Subjects: | |
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| _version_ | 1876472977029070848 |
|---|---|
| author | M.H. Farías |
| author_facet | M.H. Farías |
| contents | Estudios de homogeneidad y estructura en heteroestructuras Co-Ni/p-Si/Si(100) preparadas por PLD M.H. Farías M. García Méndez G.A. Hirata Flores G. Beamson F. F. Castillón Física, Astronomía y Matemáticas Siliciuros metalización análisis XPS ablación láser películas delgadas Se estudiaron, por medio de XPS y HRTEM, películas de Co -Ni sobre películas de silicio policristalino (Co -Ni/p-Si),ambas depositadas por medio de depósito por láser pulsado (PLD) en sustratos de Si(100). Se prepararon películas devarios grosores del orden de algunos cientos de nanómetros. Las películas fueron tratadas térmicamente en vacío, a 600oCdurante 1h. Los perfiles en profundidad XPS muestran que las películas no son homogéneas y contienen más Co que Ni.Las transiciones Co 2p y Ni 2p presentan corrimientos característicos de siliciuro. Se identificaron regionesnanocristalinas que pertenecen a estructuras de CoSi2, NiSi y NiSi2. Algunas regiones aparecen amorfas. Los granos deCoSi2 son de tamaño grande, más de 20 nm de diámetro, mientras que los nanocristales de Ni2Si y NiSi2 son del orden de 10 nm 2001 artículo científico 1665-3521 https://www.redalyc.org/articulo.oa?id=94201202 es http://www.redalyc.org/revista.oa?id=942 Superficies y vacío application/pdf Sociedad Mexicana de Ciencia y Tecnología de Superficies y Materiales A.C. Superficies y vacío (México) Num.12 |
| format | Artículo científico |
| id | redalyc_94201202 |
| institution | Redalyc |
| language | es |
| publishDate | 2001 |
| publisher | Sociedad Mexicana de Ciencia y Tecnología de Superficies y Materiales A.C. |
| spellingShingle | Estudios de homogeneidad y estructura en heteroestructuras Co-Ni/p-Si/Si(100) preparadas por PLD M.H. Farías Física, Astronomía y Matemáticas Siliciuros metalización análisis XPS ablación láser películas delgadas Estudios de homogeneidad y estructura en heteroestructuras Co-Ni/p-Si/Si(100) preparadas por PLD M.H. Farías M. García Méndez G.A. Hirata Flores G. Beamson F. F. Castillón Física, Astronomía y Matemáticas Siliciuros metalización análisis XPS ablación láser películas delgadas Se estudiaron, por medio de XPS y HRTEM, películas de Co -Ni sobre películas de silicio policristalino (Co -Ni/p-Si),ambas depositadas por medio de depósito por láser pulsado (PLD) en sustratos de Si(100). Se prepararon películas devarios grosores del orden de algunos cientos de nanómetros. Las películas fueron tratadas térmicamente en vacío, a 600oCdurante 1h. Los perfiles en profundidad XPS muestran que las películas no son homogéneas y contienen más Co que Ni.Las transiciones Co 2p y Ni 2p presentan corrimientos característicos de siliciuro. Se identificaron regionesnanocristalinas que pertenecen a estructuras de CoSi2, NiSi y NiSi2. Algunas regiones aparecen amorfas. Los granos deCoSi2 son de tamaño grande, más de 20 nm de diámetro, mientras que los nanocristales de Ni2Si y NiSi2 son del orden de 10 nm 2001 artículo científico 1665-3521 https://www.redalyc.org/articulo.oa?id=94201202 es http://www.redalyc.org/revista.oa?id=942 Superficies y vacío application/pdf Sociedad Mexicana de Ciencia y Tecnología de Superficies y Materiales A.C. Superficies y vacío (México) Num.12 |
| title | Estudios de homogeneidad y estructura en heteroestructuras Co-Ni/p-Si/Si(100) preparadas por PLD |
| topic | Física, Astronomía y Matemáticas Siliciuros metalización análisis XPS ablación láser películas delgadas |
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