Influence of several relaxation times on the cryogenic self-heating of silicon devices

Fuente: Redalyc
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Bibliographische Detailangaben
1. Verfasser: F. Javier De la Hidalga. W.
Format: Artículo científico
Sprache:en
Veröffentlicht: Sociedad Mexicana de Ciencia y Tecnología de Superficies y Materiales A.C. 2001
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