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Fabricación y caracterización de inductores sobre silicio

Fuente: Redalyc

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1. Verfasser:	W. Calleja
Format:	Artículo científico
Sprache:	es
Veröffentlicht:	Sociedad Mexicana de Ciencia y Tecnología de Superficies y Materiales A.C. 2001
Schlagworte:	Física, Astronomía y Matemáticas Inductores Circuitos integrados Fenómeno electromagnético
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_version_	1876457988780195840
author	W. Calleja
author_facet	W. Calleja
contents	Fabricación y caracterización de inductores sobre silicio W. Calleja J. Huerta R. Murphy A. Díaz M. Landa A. Torres Física, Astronomía y Matemáticas Inductores Circuitos integrados Fenómeno electromagnético En este artículo presentamos el diseño, la fabricación y caracterización de inductores pasivos sobre substratos de silicio.Estos inductores fueron fabricados utilizando una tecnología CMOS de 10mm de dimensión mínima, usando dos capas dealuminio, y SiO2 como dieléctrico internivel. Se diseñaron, fabricaron y caracterizaron inductores poligonales ycirculares, de cuatro y media y siete y media espiras. Las mediciones se realizaron con un Analizador Vectorial de Redesen el rango de 40 MHz a 5 GHz. Los resultados experimentales fueron comparados con la respuesta predicha del modeloeléctrico equivalente. 2001 artículo científico 1665-3521 https://www.redalyc.org/articulo.oa?id=94201311 es http://www.redalyc.org/revista.oa?id=942 Superficies y vacío application/pdf Sociedad Mexicana de Ciencia y Tecnología de Superficies y Materiales A.C. Superficies y vacío (México) Num.13
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institution	Redalyc
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publishDate	2001
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