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Caracterización por espectroscopía en el infrarrojo de óxidos de silicio depositados en ambiente de N2O

Fuente: Redalyc

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Detalles Bibliográficos
Autor principal:	Arturo Morales Acevedo
Formato:	Artículo científico
Lenguaje:	es
Publicado:	Sociedad Mexicana de Ciencia y Tecnología de Superficies y Materiales A.C. 2003
Materias:	Física, Astronomía y Matemáticas Óxido de silicio Nitridación térmica Espectroscopia en el infrarrojo
Acceso en línea:	Acceder al recurso
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