Caracterización por espectroscopía en el infrarrojo de óxidos de silicio depositados en ambiente de N2O
Fuente:
Redalyc
Guardado en:
| Autor principal: | |
|---|---|
| Formato: | Artículo científico |
| Lenguaje: | es |
| Publicado: |
Sociedad Mexicana de Ciencia y Tecnología de Superficies y Materiales A.C.
2003
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| Materias: | |
| Acceso en línea: | |
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