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Estudio de las propiedades eléctricas de películas de óxido de silicio crecidas térmicamente en ambiente de óxido nitroso

Fuente: Redalyc

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Dettagli Bibliografici
Autore principale:	Arturo Morales Acevedo
Natura:	Artículo científico
Lingua:	es
Pubblicazione:	Sociedad Mexicana de Ciencia y Tecnología de Superficies y Materiales A.C. 2003
Soggetti:	Física, Astronomía y Matemáticas Método Terman Campo crítico Oxidos nitridados Carga a la ruptura Estados superficiales
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