Propiedades fotoluminiscentes de películas de SiOx crecidas por la técnica HFCVD

Fuente: Redalyc

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Detalles Bibliográficos
Autor principal:	A. Coyopol
Formato:	Artículo científico
Lenguaje:	es
Publicado:	Sociedad Mexicana de Ciencia y Tecnología de Superficies y Materiales A.C. 2010
Materias:	Física, Astronomía y Matemáticas FL Si nc SiOx FTIR
Acceso en línea:	Acceder al recurso
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