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Propiedades fotoluminiscentes de películas de SiOx crecidas por la técnica HFCVD

Fuente: Redalyc

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Bibliographische Detailangaben
1. Verfasser:	A. Coyopol
Format:	Artículo científico
Sprache:	es
Veröffentlicht:	Sociedad Mexicana de Ciencia y Tecnología de Superficies y Materiales A.C. 2010
Schlagworte:	Física, Astronomía y Matemáticas FL Si nc SiOx FTIR
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