Mind the Gap—Imaging Buried Interfaces in Twisted Oxide Moirés

Fuente: Wiley Open Access

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Detalles Bibliográficos
Autores principales:	Harikrishnan KP, Xin Wei, Chia‐Hao Lee, Dasol Yoon, Yonghun Lee, Kevin J. Crust, Yu‐Tsun Shao, Ruijuan Xu, Jong‐Hoon Kang, Ce Liang, Jiwoong Park, Harold Y. Hwang, David A. Muller
Formato:	Artículo Open Access
Publicado:	Wiley 2026
Materias:	Advanced Materials
Acceso en línea:	Acceder al recurso
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