Natural van der Waals Canalization Lens for Non‐Destructive Nanoelectronic Circuit Imaging and Inspection (Adv. Mater. 32/2025)

Fuente: Wiley Open Access

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Detalles Bibliográficos
Autores principales:	Qingdong Ou, Shuwen Xue, Weiliang Ma, Jiong Yang, Guangyuan Si, Lu Liu, Gang Zhong, Jingying Liu, Zongyuan Xie, Ying Xiao, Tian Sun, Ding Yuan, Kourosh Kalantar‐Zadeh, Peining Li, Zhigao Dai, Huanyang Chen, Qiaoliang Bao
Formato:	Artículo Open Access
Publicado:	Wiley 2025
Materias:	Advanced Materials
Acceso en línea:	Acceder al recurso
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