Exploring Oxygen Vacancies in Sputtered HfO 2 Films for Multi‐Bit RRAM Applications

Fuente: Wiley Open Access

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Bibliographische Detailangaben
Hauptverfasser:	Tanmayee Parida, Sonali Patajoshi, Bisweswar Santra, Ummiya Qamar, Aniruddha Bose, P. N. Rao, Sanjay Rai, Santanu Das, Aloke Kanjilal
Format:	Artículo Open Access
Veröffentlicht:	Wiley 2025
Schlagworte:	Advanced Materials Technologies
Online-Zugang:	Acceder al recurso
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