Exploring Oxygen Vacancies in Sputtered HfO 2 Films for Multi‐Bit RRAM Applications

Fuente: Wiley Open Access

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Dettagli Bibliografici
Autori principali:	Tanmayee Parida, Sonali Patajoshi, Bisweswar Santra, Ummiya Qamar, Aniruddha Bose, P. N. Rao, Sanjay Rai, Santanu Das, Aloke Kanjilal
Natura:	Artículo Open Access
Pubblicazione:	Wiley 2025
Soggetti:	Advanced Materials Technologies
Accesso online:	Acceder al recurso
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