UV‐Enhanced, Humidity‐Tolerant Formaldehyde Chemiresistor Based on Ce‐MOF‐Derived CeO 2 Nanospheres Decorated 1D/2D Polyaniline Nanohybrid (Adv. Mater. Technol. 21/2025)

Fuente: Wiley Open Access

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Detalles Bibliográficos
Autores principales:	Ajeet Singh, Wei‐Cheng Jhao, Priyanka Chaudhary, Meng‐Fang Lin
Formato:	Artículo Open Access
Publicado:	Wiley 2025
Materias:	Advanced Materials Technologies
Acceso en línea:	Acceder al recurso
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