Nanoscale Resist‐Free Patterning of Halogenated Zeolitic Imidazolate Frameworks by Extreme UV Lithography

Fuente: Wiley Open Access

Guardado en:

Detalles Bibliográficos
Autores principales:	Weina Li, Tianlei Ma, Pengyi Tang, Yunhong Luo, Hui Zhang, Jun Zhao, Rob Ameloot, Min Tu
Formato:	Artículo Open Access
Publicado:	Wiley 2025
Materias:	Advanced Science
Acceso en línea:	Acceder al recurso
Etiquetas:	Agregar Etiqueta Sin Etiquetas, Sea el primero en etiquetar este registro!

Internet