Thermal Design of a Schiff Base Cobalt(II) Precursor: Thermal Stability, Volatility, and Thin Film Deposition of Nanocrystalline Co 3 O 4 by Plasma‐Assisted MOCVD
Fuente:
Wiley Open Access
Gespeichert in:
| Hauptverfasser: | , , , , |
|---|---|
| Format: | Artículo Open Access |
| Veröffentlicht: |
Wiley
2026
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