Thermal Design of a Schiff Base Cobalt(II) Precursor: Thermal Stability, Volatility, and Thin Film Deposition of Nanocrystalline Co 3 O 4 by Plasma‐Assisted MOCVD

Fuente: Wiley Open Access

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Détails bibliographiques
Auteurs principaux:	A. Roniboss, D. Malathy, G. Boopathy, Dongjin Choi, T. U. Jeevitha
Format:	Artículo Open Access
Publié:	Wiley 2026
Sujets:	Applied Organometallic Chemistry
Accès en ligne:	Acceder al recurso
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