Thermal Design of a Schiff Base Cobalt(II) Precursor: Thermal Stability, Volatility, and Thin Film Deposition of Nanocrystalline Co 3 O 4 by Plasma‐Assisted MOCVD
Fuente:
Wiley Open Access
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| Autores principales: | , , , , |
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| Formato: | Artículo Open Access |
| Publicado: |
Wiley
2026
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| DOI: | 10.1002/aoc.70601 |
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