Halogenated Metal‐Organic Clusters for High‐Resolution Extreme Ultraviolet Lithography Resists †

Fuente: Wiley Open Access

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Détails bibliographiques
Auteurs principaux:	Jinwen Li, Zhaohui Zhu, Tianlei Ma, Weina Li, Kaimin Luo, Yanshu Gu, Jun Zhao, Fu Li, Min Tu
Format:	Artículo Open Access
Publié:	Wiley 2025
Sujets:	Chinese Journal of Chemistry
Accès en ligne:	Acceder al recurso
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