Halogenated Metal‐Organic Clusters for High‐Resolution Extreme Ultraviolet Lithography Resists †

Fuente: Wiley Open Access
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Autori principali: Jinwen Li, Zhaohui Zhu, Tianlei Ma, Weina Li, Kaimin Luo, Yanshu Gu, Jun Zhao, Fu Li, Min Tu
Natura: Artículo Open Access
Pubblicazione: Wiley 2025
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