Numerical Investigation of Coupled Effects of Rotational Speed Difference and Growth Rate on VO x Defect Behavior in Czochralski Silicon

Fuente: Wiley Open Access

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Auteurs principaux:	Qitao Zhang, Ai Wang, Tai Li, Peilin He, Yuwei Wang, Kaifeng Liao, Guoqiang Lv, Xingwei Yang, Wenhui Ma
Format:	Artículo Open Access
Publié:	Wiley 2025
Sujets:	Crystal Research and Technology
Accès en ligne:	Acceder al recurso
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