PCL‐ b ‐PnBA Additives Enable Flexible and Adhesive Photoresists through Microphase Separation

Fuente: Wiley Open Access

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Auteurs principaux:	Shibiru Yadeta Ejeta, Trupti Bembalkar, Shiao‐Wei Kuo, Mao‐Feng Hsu, Hsin‐Min Wang, Kuan‐Yu Kuo, Chih‐Feng Huang
Format:	Artículo Open Access
Publié:	Wiley 2025
Sujets:	Macromolecular Chemistry and Physics
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