PCL‐ b ‐PnBA Additives Enable Flexible and Adhesive Photoresists through Microphase Separation

Fuente: Wiley Open Access
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Autori principali: Shibiru Yadeta Ejeta, Trupti Bembalkar, Shiao‐Wei Kuo, Mao‐Feng Hsu, Hsin‐Min Wang, Kuan‐Yu Kuo, Chih‐Feng Huang
Natura: Artículo Open Access
Pubblicazione: Wiley 2025
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