Impact of simultaneous exposure to RF and gradient electromagnetic fields on implant MR safety labeling

Fuente: Wiley Open Access
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Detalles Bibliográficos
Autores principales: Umberto Zanovello, Alessandro Arduino, Carina Fuss, Tolga Goren, Luca Zilberti, Oriano Bottauscio
Formato: Artículo Open Access
Publicado: Wiley 2025
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