Challenges in scaling of IPVD deposited Ta barriers on OSG low‐k films: Carbonization of Ta by CHx radicals generated through VUV‐induced decomposition of carbon‐containing groups

Fuente: Wiley Open Access

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Bibliographische Detailangaben
Hauptverfasser:	Alexey N. Ryabinkin, Alexey S. Vishnevskiy, Sergej Naumov, Alexander O. Serov, Konstantin I. Maslakov, Dmitry S. Seregin, Dmitry A. Vorotyntsev, Alexander F. Pal, Tatyana V. Rakhimova, Konstantin A. Vorotilov, Mikhail R. Baklanov
Format:	Artículo Open Access
Veröffentlicht:	Wiley 2024
Schlagworte:	Plasma Processes and Polymers
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