Discharge Characteristics and Active Particle Distribution Mechanism of Ar/O2/CF4 Dielectric Barrier Discharge

Fuente: Wiley Open Access

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Detalles Bibliográficos
Autores principales:	Jiacheng Zhang, Peng Zhang, Wenjun Ning, Huiping Shu, Shuangcheng Li, Jian Guo, Jinwei Liu, Deping Yu
Formato:	Artículo Open Access
Publicado:	Wiley 2025
Materias:	Plasma Processes and Polymers
Acceso en línea:	Acceder al recurso
Etiquetas:	Agregar Etiqueta Sin Etiquetas, Sea el primero en etiquetar este registro!

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