P‐7.22: Pulsed laser deposition of wide‐band gap and low leakage current density hafnium oxide thin films

Fuente: Wiley Open Access

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Détails bibliographiques
Auteurs principaux:	Dingrong Liu, Zihan Zhang, Rihui Yao, Guoping Su, Zhenchao Li, Kuankuan Lu, Haoyan Chen, Honglong Ning, Junbiao Peng
Format:	Artículo Open Access
Publié:	Wiley 2024
Sujets:	SID Symposium Digest of Technical Papers
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