P‐111: A Machine Learning Perspective for the Optimization of Annealing Parameters in Solution Processed Thin Film Devices

Fuente: Wiley Open Access
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Detalles Bibliográficos
Autores principales: Jiankai Wang, Xi Chen, Xiao Wang, Lihai Xu, Shuhui Tan, Jun Tang, Wei Chen, Haodong Tang
Formato: Artículo Open Access
Publicado: Wiley 2024
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