4‐3: Silicon‐Oxide Thin Films Deposited by Plasma‐Enhanced Atomic Layer Deposition for High Mobility Oxide TFT

Fuente: Wiley Open Access

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Detalles Bibliográficos
Autores principales:	Heeyong Lee, Choelmin Jang, Junggon Kim, Myungsoo Huh, Cheollae Roh
Formato:	Artículo Open Access
Publicado:	Wiley 2025
Materias:	SID Symposium Digest of Technical Papers
Acceso en línea:	Acceder al recurso
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