4‐4: Finetuning the Microstructure of Metal‐Oxide Targets to Optimize Sputter Behavior for Thin Films in TFT
Fuente:
Wiley Open Access
Salvato in:
| Autori principali: | , , , |
|---|---|
| Natura: | Artículo Open Access |
| Pubblicazione: |
Wiley
2025
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