27‐3: Invited Paper: High‐k hybrid gate dielectrics for flexible, low‐voltage thin‐film transistors

Fuente: Wiley Open Access

Guardado en:

Detalles Bibliográficos
Autores principales:	Xianzhe Liu, Li Zhang, Ruihua Wang, Huiqi Zhang, Yan Li, Xin You, Sikai Lv, Aiping Huang
Formato:	Artículo Open Access
Publicado:	Wiley 2025
Materias:	SID Symposium Digest of Technical Papers
Acceso en línea:	Acceder al recurso
Etiquetas:	Agregar Etiqueta Sin Etiquetas, Sea el primero en etiquetar este registro!

Internet