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27‐3: Invited Paper: High‐k hybrid gate dielectrics for flexible, low‐voltage thin‐film transistors

Fuente: Wiley Open Access

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Bibliographische Detailangaben
Hauptverfasser:	Xianzhe Liu, Li Zhang, Ruihua Wang, Huiqi Zhang, Yan Li, Xin You, Sikai Lv, Aiping Huang
Format:	Artículo Open Access
Veröffentlicht:	Wiley 2025
Schlagworte:	SID Symposium Digest of Technical Papers
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