P‐1.38: Mobility Enhancement in Dual‐Gate a‐IZO Thin‐Film Transistors through Low‐Pressure Oxygen Annealing

Fuente: Wiley Open Access
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Detalles Bibliográficos
Autores principales: Yuhan Zhang, Zhikang Ma, Huan Yang, Xiaoliang Zhou, Zhiwei Tan, Hejing Sun, Congwei Liao, Lei Lu, Shengdong Zhang
Formato: Artículo Open Access
Publicado: Wiley 2025
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