Spin coating high‐ k multicomponent (Al,Ti,V,Zr,Hf)O x films with sub‐nm EOT for MOS‐based electronic devices

Fuente: Wiley Open Access
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Auteurs principaux: Yu‐Chen Wang, Van Dung Nguyen, Kao‐Shuo Chang
Format: Artículo Open Access
Publié: Wiley 2024
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