Correlative characterization of plasma etching resistance of various aluminum garnets

Fuente: Wiley Open Access
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Auteurs principaux: Christian Stern, Christian Schwab, Moritz Kindelmann, Mark Stamminger, Thomas E. Weirich, Inhee Park, Florian Hausen, Martin Finsterbusch, Martin Bram, Olivier Guillon
Format: Artículo Open Access
Publié: Wiley 2024
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