Correlative characterization of plasma etching resistance of various aluminum garnets

Fuente: Wiley Open Access
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Autori principali: Christian Stern, Christian Schwab, Moritz Kindelmann, Mark Stamminger, Thomas E. Weirich, Inhee Park, Florian Hausen, Martin Finsterbusch, Martin Bram, Olivier Guillon
Natura: Artículo Open Access
Pubblicazione: Wiley 2024
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