Stiff TiN Network in Si 3 N 4 : Achieving High Strength, Toughness, and EMI Shielding

Fuente: Wiley Open Access

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Detalles Bibliográficos
Autores principales:	Baokuo Nie, Xinghua Shen, Tongyang Li, Yuan Yu, Lujie Wang, Huaguo Tang, Zhuhui Qiao
Formato:	Artículo Open Access
Publicado:	Wiley 2026
Materias:	Journal of the American Ceramic Society
Acceso en línea:	Acceder al recurso
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