Patterns of regret for inadequate sun protection: A population‐based study [ HELIOS ]

Fuente: Wiley Open Access

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Dettagli Bibliografici
Autori principali:	T. Passeron, H. W. Lim, C. L. Goh, H. Y. Kang, F. Ly, A. Morita, J. Ocampo‐Candiani, S. Puig, S. Schalka, L. Wei, A. L. Demessant, C. Taïeb, C. Le Floc'h, D. Kerob, J. Krutmann
Natura:	Artículo Open Access
Pubblicazione:	Wiley 2026
Soggetti:	Journal of the European Academy of Dermatology and Venereology
Accesso online:	Acceder al recurso
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Descrizione
DOI:	10.1111/jdv.70385

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