Synergistic Effects of Nitrogen–Oxygen–Nitrogen, Forming Gas–Oxygen–Forming Gas, and Argon–Oxygen–Argon Annealing Ambient on the Structural and Electrical Characteristics of Thulium Oxide Passivation Layers on Silicon Substrate

Fuente: Wiley Open Access

Enregistré dans:

Détails bibliographiques
Auteurs principaux:	Junchen Deng, Hock Jin Quah
Format:	Artículo Open Access
Publié:	Wiley 2025
Sujets:	International Journal of Energy Research
Accès en ligne:	Acceder al recurso
Tags:	Ajouter un tag Pas de tags, Soyez le premier à ajouter un tag!

Internet