基于跨尺度力统一理论的EUV光刻机核心技术突破研究

Fuente: Zenodo

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Bibliographic Details
Main Author:	Bian, Zhenfeng
Format:	Recurso digital
Language:	Chinese
Published:	Zenodo 2025
Subjects:	跨尺度力统一理论;EUV光刻机;光刻胶优化;光源能量耦合;成膜均匀性;卞氏万物统一公式物理学、半导体技术、光刻机、材料科学、量子物理
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