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Thermal Design of a Schiff Base Cobalt(II) Precursor: Thermal Stability, Volatility, and Thin Film Deposition of Nanocrystalline Co 3 O 4 by Plasma‐Assisted MOCVD Autoría: A. Roniboss, D. Malathy, G. Boopathy, Dongjin Choi, T. U. Jeevitha
Publicado 2026Fuente: Wiley Open AccessTipo de material: Artículo Open AccessAcceso al recurso