Li, T., Kahnt, M., Sheppard, T. L., Yang, R., Falch, K. V., Zvagelsky, R., . . . Lyubomirskiy, M. (2024). X-ray multibeam ptychography at up to 20 keV: Nano-lithography enhances X-ray nano-imaging.
Chicago-Zitierstil (17. Ausg.)Li, Tang, Maik Kahnt, Thomas L. Sheppard, Runqing Yang, Ken Vidar Falch, Roman Zvagelsky, Pablo Villanueva-Perez, Martin Wegener, und Mikhail Lyubomirskiy. X-ray Multibeam Ptychography at Up to 20 KeV: Nano-lithography Enhances X-ray Nano-imaging. 2024.
MLA-Zitierstil (9. Ausg.)Li, Tang, et al. X-ray Multibeam Ptychography at Up to 20 KeV: Nano-lithography Enhances X-ray Nano-imaging. 2024.
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