Fuchs, C., Fürst, L., Buhmann, H., Kleinlein, J., & Molenkamp, L. W. (2024). Overlapping Top Gate Electrodes based on Low Temperature Atomic Layer Deposition for Nanoscale Ambipolar Lateral Junctions.
Chicago-Zitierstil (17. Ausg.)Fuchs, Christopher, Lena Fürst, Hartmut Buhmann, Johannes Kleinlein, und Laurens W. Molenkamp. Overlapping Top Gate Electrodes Based on Low Temperature Atomic Layer Deposition for Nanoscale Ambipolar Lateral Junctions. 2024.
MLA-Zitierstil (9. Ausg.)Fuchs, Christopher, et al. Overlapping Top Gate Electrodes Based on Low Temperature Atomic Layer Deposition for Nanoscale Ambipolar Lateral Junctions. 2024.
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