Hughes, M. A., Liu, H., Brookfield, A., Wang, T., Crowe, I. F., & Dan, Y. (2024). Rapid quench annealing of Er implanted Si for quantum networking applications.
Chicago-Zitierstil (17. Ausg.)Hughes, Mark A., Huan Liu, Adam Brookfield, Tianrui Wang, Iain F. Crowe, und Yaping Dan. Rapid Quench Annealing of Er Implanted Si for Quantum Networking Applications. 2024.
MLA-Zitierstil (9. Ausg.)Hughes, Mark A., et al. Rapid Quench Annealing of Er Implanted Si for Quantum Networking Applications. 2024.
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