Gentile, M., Gerlach, M., Richter, R., van Setten, M. J., Petersen, J. S., van der Heide, P., & Holzmeier, F. (2024). Dissociative photoionization of EUV lithography photoresist models.
Style de citation Chicago (17e éd.)Gentile, Marziogiuseppe, Marius Gerlach, Robert Richter, Michiel J. van Setten, John S. Petersen, Paul van der Heide, et Fabian Holzmeier. Dissociative Photoionization of EUV Lithography Photoresist Models. 2024.
Style de citation MLA (9e éd.)Gentile, Marziogiuseppe, et al. Dissociative Photoionization of EUV Lithography Photoresist Models. 2024.
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