Peng, J., Venugopal, R., Blick, R., & Zierold, R. (2024). Atomic layer etching of SiO$_2$ using sequential SF$_6$ gas and Ar plasma.
Chicago-Zitierstil (17. Ausg.)Peng, Jun, Rakshith Venugopal, Robert Blick, und Robert Zierold. Atomic Layer Etching of SiO$_2$ Using Sequential SF$_6$ Gas and Ar Plasma. 2024.
MLA-Zitierstil (9. Ausg.)Peng, Jun, et al. Atomic Layer Etching of SiO$_2$ Using Sequential SF$_6$ Gas and Ar Plasma. 2024.
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