In-situ and Non-contact Etch Depth Prediction in Plasma Etching via Machine Learning (ANN & BNN) and Digital Image Colorimetry

Fuente: arXiv

Guardado en:

Detalles Bibliográficos
Autores principales:	Kang, Minji, Kim, Seongho, Go, Eunseo, Paek, Donghyeon, Lim, Geon, Kim, Muyoung, Kim, Soyeun, Jang, Sung Kyu, Choi, Min Sup, Kang, Woo Seok, Kim, Jaehyun, Kim, Jaekwang, Kim, Hyeong-U
Formato:	Preprint
Publicado:	2025
Materias:	Computer Vision and Pattern Recognition Artificial Intelligence
Acceso en línea:	Acceder al recurso
Etiquetas:	Agregar Etiqueta Sin Etiquetas, Sea el primero en etiquetar este registro!

Internet

https://arxiv.org/abs/2505.03826