Kharazi, T. D., Fomichev, S., Kanno, S., Kobayashi, T., Arrazola, J. M., Gao, Q., & Stetina, T. F. (2026). Quantum Simulations for Extreme Ultraviolet Photolithography.
Chicago-Zitierstil (17. Ausg.)Kharazi, Tyler D., Stepan Fomichev, Shu Kanno, Takao Kobayashi, Juan Miguel Arrazola, Qi Gao, und Torin F. Stetina. Quantum Simulations for Extreme Ultraviolet Photolithography. 2026.
MLA-Zitierstil (9. Ausg.)Kharazi, Tyler D., et al. Quantum Simulations for Extreme Ultraviolet Photolithography. 2026.
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