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| Autore principale: | |
|---|---|
| Natura: | Artículo científico |
| Lingua: | es |
| Pubblicazione: |
Universidad de Tarapacá
2015
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| Soggetti: | |
| Accesso online: | https://www.redalyc.org/articulo.oa?id=77233740010 |
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Sommario:
- Diseño e implementación de un reactor de deposición química de vapor para producir películas delgadas M. Arroyave J.M. Jaramillo M. Arenas C. Saldarriaga J. Jaramillo V. Londoño Ingeniería DLC ECVD microondas películas delgadas simulación numérica El presente trabajo describe el desarrollo y la implementación de un reactor de deposición química de vapor asistido por plasma PECVD (Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition). La construcción se realizó a partir del diseño de los diferentes componentes que lo constituyen: etapa de generación de vacío, etapa de suministro de potencia a la descarga, etapa de extracción iónica, sistema de gases y sistema de calentamiento de los sustratos. La potencia aplicada para la generación de la descarga, que es fundamental para este tipo de reactores, se obtuvo a partir de un horno microondas casero, en el que se encuentra un magnetrón acoplado a una guía de onda y a una cavidad resonante, que es la propia caja del horno microondas. Se reportan algunos resultados preliminares preparados con el reactor implementado; los cuales consisten esencialmente en recubrimientos de tipo DLC (Diamond Like Carbon) sobre sustratos de silicio pulido, que fueron caracterizados por microscopia de fuerza atómica - AFM y espectroscopia Raman. Los resultados muestran que se pueden obtener diversas formas moleculares a base de carbono, principalmente amorfas, por lo cual esta implementación de un reactor PECVD de bajo costo se convierte en una alternativa para el desarrollo de investigaciones en el área de nuevos materiales. 2015 artículo científico 0718-3291 https://www.redalyc.org/articulo.oa?id=77233740010 es http://www.redalyc.org/revista.oa?id=772 Ingeniare. Revista Chilena de Ingeniería application/pdf Universidad de Tarapacá Ingeniare. Revista Chilena de Ingeniería (Chile) Num.1 Vol.23